濺射鍍膜鈮靶材表面產(chǎn)生紋路的原因
發(fā)布時(shí)間：
2024-02-27
鈮靶材主要應(yīng)用于光學(xué)鍍膜、表面工程材料鍍膜及耐熱、耐腐蝕高導(dǎo)電等鍍膜行業(yè)。在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域，主要應(yīng)用于眼科光學(xué)產(chǎn)品、鏡頭、精密光學(xué)、大面積鍍膜、3D鍍膜等方面。
鈮靶材通常稱為裸靶，首先將其與銅背靶進(jìn)行焊接，然后進(jìn)行濺射，將鈮原子以氧化物形式淀積在基板材料上，實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜。隨著鈮靶材技術(shù)與應(yīng)用的不斷深入與拓展，對(duì)鈮靶材的組織均勻性要求提高，主要表現(xiàn)在晶粒尺寸細(xì)化、無明顯織構(gòu)取向和化學(xué)純度提高三個(gè)方面。
整靶組織性能分布均勻，這對(duì)保證鈮靶材的濺射性能至關(guān)重要。工業(yè)生產(chǎn)中遇到的鈮靶材表面通常會(huì)出現(xiàn)規(guī)律性紋路，這會(huì)大大影響靶材的濺射性能，我們?cè)撊绾翁岣甙胁睦寐誓?
經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)，雜質(zhì)含量(靶材純度)是影響純度的重要原因。原材料的化學(xué)成分不均，雜質(zhì)富集，經(jīng)過后期的軋制加工，形成鈮靶材表面有規(guī)律的紋路; 消除原材料成分分布不均和雜質(zhì)富集，可避免鈮靶材表面有規(guī)律紋路的形成。而晶粒大小跟組織成分對(duì)靶材的影響幾乎是可以忽略不計(jì)的。
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